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DH-500JJC型多靶磁控濺射鍍膜機DH500JJC生產(chǎn)廠家
DH-500JJC型多靶磁控濺射鍍膜機DH500JJC生產(chǎn)廠家

產(chǎn)品型號: DH-500JJC

所屬分類:電阻測量儀

產(chǎn)品時間:2016-08-25

簡要描述:DH-500JJC型多靶磁控濺射鍍膜機DH500JJC生產(chǎn)廠家該鍍膜機主要用于科研實驗,可制備納米級和微米級的單層及多層功能膜-各種硬質(zhì)膜、光學膜、金屬膜、鐵磁薄膜、半導體膜、介質(zhì)膜和氧化物薄膜等多種薄膜。

詳情介紹

DH-500JJC型多靶磁控濺射鍍膜機DH500JJC生產(chǎn)廠家

該鍍膜機主要用于科研實驗,可制備納米級和微米級的單層及多層功能膜-各種硬質(zhì)膜、光學膜、金屬膜、鐵磁薄膜、半導體膜、介質(zhì)膜和氧化物薄膜等多種薄膜。

  該鍍膜機為前開門式設計,功能強、鍍膜質(zhì)量穩(wěn)定、重復性好、操作簡便。真空室材料均采用優(yōu)良材質(zhì)SUS304 不銹鋼材料制造,工藝規(guī)范、精致,保證了材料的成膜純度。

  采用分子泵+直聯(lián)機械泵機組,具有抽速快、無油、操作方便快捷、易于維護的特點。

   鍍膜方式:可實現(xiàn)多靶共濺模式;

   磁控靶:圓柱/平面靶;

   進氣系統(tǒng):三路質(zhì)量流量計;

   鍍膜室體積:500mm*500mm*600mm;

   極限真空度:5X10-5 Pa,恢復真空:從大氣抽至6.7X10-4 Pa (40分鐘);

   真空抽氣系統(tǒng):機械泵與分子泵組成;

   真空測量系統(tǒng):數(shù)顯復合真空計;

   工作電源:直流電源500W;射頻電源500W(13.56MHz);加熱控溫電源;

   工件烘烤溫度:室溫~800℃可控可調(diào)(PID控溫);

   選配件:石英晶振測厚儀、冷卻水機組等;

   供電電源:三相AC380V,50Hz。

  ◆ 特殊規(guī)格可定制。

 

DH-500JJC型多靶磁控濺射鍍膜機DH500JJC生產(chǎn)廠家

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